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  • 课题组首次采用“自下而上法”合成硼量子点
  • 来源:王慧奇教授/博导个人网站 2022-05-02
  •  课题组韩佳城同学首次采用“自下而上法”合成硼量子点,平均尺寸约为6.4nm,应用于闪存器件中具有低误读率等优势。该成果在线发表在RSC高水平学术刊物CrystEngComm上,CrystEngComm为SCI收录、中科院二区期刊,影响因子3.545。

    详情请关注下面地址。https://doi.org/10.1039/D2CE00298A




  • [来源:中国聚合物网]
  • 了解更多请进入: 王慧奇教授/博导个人网站
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