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英国牛津仪器仪表方起研究员访问中科院固体所
2011-7-26 来源:中国聚合物网
关键词:交流合作 ALD

  应中科院合肥物质科学研究院固体所所长蔡伟平研究员邀请,7月18日至22日,英国牛津仪器仪表等离子体技术公司(Oxford Instruments Plasma Technology,UK)方起研究员访问了固体所,并作了题为“原子层沉积系统(ALD)的发展与应用”的学术报告,并与该所相关科研人员进行了座谈和讨论。

  ALD技术作为一种先进的薄膜生长技术,已经在高介电和半导体薄膜生长等多方面得到了应用。新型高介电栅介质材料,纳米材料和纳米技术以及3D电子器件等是推动ALD发展重要的需求动力。方起研究员向大家介绍了ALD基本原理、发展历程、应用现状和未来的发展趋势,特别是等离子体增强ALD的技术优势。方起研究员还针对ALD实验室建设和应用提供了专业的建议和意见。

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(小徐)
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