Mg∶Er∶LiNbO3晶体波导基片抗光损伤的研究-中国聚合物网,论文下载

Mg∶Er∶LiNbO3晶体波导基片抗光损伤的研究

资料类型：

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关键词：

Mg:Er:LN晶体波导基片光损伤

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551K

所属学科：

通用高分子材料

来源：

来源网络

简介：

以Czochralski技术生长Mg(2mol%):Er(1mol%):LN,Mg(4mol%):Er(1mol%):LN，Mg(6mol%):Er(1mol%):LN，Mg(8mol%):Er(1mol%):LN和Er(1mol%):LN晶体。测试了Mg:Er:LiNbO3晶体的红外光谱，Mg（2mol%）:Er:LN，Mg(4mol%):Er:LNOH-吸收峰在3486cm-1附近，Mg(6mol%):Er:LN和Mg(8mol%):Er:LN晶体OH-吸收峰移动到3535cm-1附近，对Mg:Er:LN晶体OH-吸收峰移动机理进行研究。采用m线法测试Mg:Er:LN晶体光损伤阈值。Mg(6mol%):Er(1mol%):LN和Mg(8mol%):Er:LN晶体光损伤阈值比Er:LN晶体提高两个数量级以上。Mg（2mol%）:Er:LN和Mg(4mol%):Er:LN晶体比Er(1mol%):LN晶体提高一个数量级。

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2007-07-17 14:16:43

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