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X荧光光谱仪
1.检测元素范围 Na--U。 2.X射线发生装置5-50kV,10mA,50W，靶Rh。 3.分辨率149ev。 4.试样舱300mm直径X150mm高。 5.电脑操作Windows2000,标配软件。 (有液氮制冷和电制冷两种）
1.一次性分析微量的Cd,Hg,Cr 2.分析速度快Cd40ppm 10sec.10ppm,2min. 3.单键完成操作。 4.配备环境分析软件 5.灵敏度高，能做100kcps测定 JSX-3400R环境分析用元素分析仪、应对EU（欧盟）电器及电子设备废料回收（WEEE）和特定有害物质的使用限制（RoHS...
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HORIBA X荧光光谱仪
·Horiba聚焦式X光管，元素分布范围(Na-U)。 ·采用采用高纯硅检测器的产品，液氮制冷,RoSH检出限：Cd/Pb/Hg/Br≤2ppm，Cr≤5ppm。 ·装有CCD分析显微镜(100倍)，同轴分析。 ·样品台可自动移动，进行扫描测试，样品多点分析(99个点),样品透视分析。 ·样品仓规格：400(W)×350(D)×40(H)mm ·检测样品：电子、玩具、塑料、金属、纸、涂料、油墨等固体、粉末、液体样品。HORIBA是世界高科技分析测量仪器的领导制造商。HORIBA的目标...
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荧光光谱仪
塑料与合金分析仪在进行检测方面应用具有： ·快速，直观：通常使用 100 秒的检测时间就可达到 ROHS 法令的要求 ·无损不破坏：由于采用 X 荧光能量色散原理，不需要取样及破坏待测样品 ·操作简便 : 并且不需要专门使用专业检测人员 , 普通 QA 员工经过 1 天左右培训后就能熟练操作该仪器。
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X荧光光谱仪 rohs测试仪
仪 器 配 置： 电制冷硅探测器 美国amptek公司定制 高压电源 美国spellman dp4 高集成度核心数据处理器美国amptek公司定制 x光管 荧光分析仪专用 制冷系统 在电子式制冷的基础上又增加...
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S4系列荧光光谱仪（XRF）
1.S4 EXPLORER 发生器最大输出功率1KW2.S4 PIONEER 发生器最大输出功率4KW
S4 EXPLORER是布鲁克AXS公司于1999年推出的世界首创的即插即用式波长色散X射线荧光光谱仪，不需要任何的辅助设备，插上电源就可以使用。具有ACS全自动安装与校准系统及IAI一体化人工智能系统，使用Pro4高透光性封闭正比计数器，高精度光学编码测角仪，配有独创的60位一体化机器人X-Y二维自动进样器。 S4 PIONEER是真正的21世纪产品，...
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原子荧光光谱仪
1、特有的氢化物发生，气/液分离器 2、对元素的氢化物形式如汞、镉、锌的检测可达到ppt水平 3、双通道设计，可同时测定两种元素 4、特有光学设计，杂散光低，无须进行光路调整 5、线性范围宽，3个数量级 6、配合自动进样器，实现全自动分析 7、AISPECTM软件，操作简便
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X射线荧光光谱仪(XRF)
产品型号 S-Mobile 描述 工作台, 50kV, 50W, 160eV+/-10eV PIN二极管 5.9keV 及 10,000cps 输出，EDXRF 系统 系列 X-2600P 元素分析范围： 从Na至U的常规分析 Ｘ射线光源 50kV, 50 瓦，Ｍｏ正极 高压电源 50kV, 4000μA 电源电压 110 或 220, 插入式 控制器 X-2600M控制器 样本腔室尺寸 深 ６５mm，高 ４０mm 过滤器／瞄准仪系列 １个Ｍｏ永久过滤器 能量校准样品 ３；Ｔｉ，Ｃｕ，Ｓｎ 探测器 ＰＩＮ二极管， 分辨率 1...
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X荧光光谱仪 rohs测试仪
Horiba XGT-1000WR是针对于小型电子产品所含有的有害元素，进行快速简单分析所开发的专用分析仪器。(主要是针对于WEEE / RoHS指令) ·独家专利技术的聚焦式X光管(1.2mm)，宽元素分析范围（Na-U），可直接分析线束等细小样品。 ·世界上唯一采用高纯硅检测器的产品，液氮制冷，保证高检测精度。（检出下限：Cd/Pb/Hg/Br≤2ppm，Cr≤5ppm） ·五元素滤光片同时检测法规要求的元素。 ·装有CCD摄像机（50倍），并与X射线同轴分析。 ·...
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手持式X荧光光谱仪
Beethor，是世界上最大的便携式分析仪器制造商。
作为手持式X射线荧光（XRF）分析仪器制造行业的领袖，浪声科学仪器一直被业界公认为工业现场合金、矿物、土壤、考古、RoHS、消费品等领域的材料分析标准，在地质勘探、矿山开采、矿产贸易、金属冶炼、环境保护、航空航天、石油化工、机械制造、电力、特检机构、电子电器、物资回收等领域有广泛的应用。
技术指标
型号：手持式能量色散分析仪探测器：13mm2...
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能量色散X荧光光谱仪
技术指标：分析精度：0.05%；分析范围：1PPM-99.9%；测量元素：从硫至铀等75中元素；测量对象：粉末、固体、液体；分析电镀溶液中的金属离子浓度可分析10层以上的镀层。测试镀层最薄至0.005μm；步进最小距离：0.01mm；测量时间：60~300秒；工作温度：15~30℃；相对湿度：≤70%；重量：30KG；工作电压： AC110V/220V
配置：单样品腔、 计算机、 喷墨打印机、 硅针半导体探测器、 放大电路、 最低压电源、 X光管、 双激光定位系统...
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