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人工晶状体的表面工程研究
关键字:人工晶状体 表面改性 等离子体 层层自组装 生物相容性
手术摘除混浊的晶状体并植入人工晶状体(IOL)是目前有效治愈白内障的唯一手段。已得到临床应用的IOL高分子材料包括:聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、硅凝胶、亲水性聚丙烯酸酯和软性疏水性聚丙烯酸酯,表面亲疏水性和生物相容性是选择IOL的重要参考。根据并发症与IOL前后表面的关系可分为前表面和后表面相关并发症,前者包括前囊膜混浊(ACO)、炎症异物反应等,后者主要表现为后囊膜混浊(PCO)。临床发现由IOL的疏水性引发的前表面相关并发...
http://www.polymer.cn/research/dis_info10556
 
Ag离子注入单晶MgO光吸收和透射电镜研究
关键字:离子注入,纳米颗粒,表面等离子体共振吸收,退火
能量为200keV的Ag 离子注入到单晶MgO中,透射电镜明场像和高分辨像证明了该样品中形成了Ag纳米颗粒。未退火样品以及还原气氛下退火样品的光吸收谱都观察到Ag的吸收峰。发现随退火温度的升高,Ag的吸收峰先向短波方向移动,随退火温度的进一步升高又向长波移动,退火温度达到900°C时吸收峰红移到未退火前的位置。由透射电镜明场像和相应的选区电子衍射花样发现,由于离子辐照效应使得Ag 离子注入单晶MgO非晶化,且注...
http://www.polymer.cn/research/dis_info7267
 
氨气等离子体下游区合成碳纳米管的研究
关键字:碳纳米管,介质阻挡放电,下游区,甲烷,氨气
利用介质阻挡放电等离子体化学气相沉积技术,在蒸镀有13nm Ni催化剂层的Si基材上,以CH4为碳源,H2与NH3的混和物为刻蚀和稀释气体,在630和750℃的不同温度条件下合成碳纳米管。实验研究了不同氨气比例条件下碳纳米管的生长情况,并给出了合成碳纳米管的最佳氨气含量区间。SEM和TEM测试发现,所合成的碳纳米管具有竹节型结构,Ni催化剂形貌表明碳纳米管生长符合顶端机制。实验还发现氨气含量对碳纳米管的生长影响很大,并对其...
http://www.polymer.cn/research/dis_info6619
 
原位研究聚己内酯的酶催化降解反应
关键字:聚己内酯,降解,石英晶体微天平,表面等离子体共振
聚己内酯(PCL)具有良好的生物相容性和可降解性,在药物负载与释放,环境友好材料等方面有着重要应用。PCL 在生物体内和体外的酶催化降解过程一直受到人们的关注。一般来讲,对于底物和酶均可溶解的降解反应,其动力学可以用Michael-Menten 模型描述;对于底物不可溶的非均相酶催化降解反应,一般认为酶只能与界面的底物作用。然而,目前对于PCL 的酶催化降解主要是宏观尺度上的研究,对于微观尺度上的降解机理并不...
http://www.polymer.cn/research/dis_info4816
 
Ag纳米颗粒表面等离子体共振吸收峰的红移现象
关键字:离子注入 纳米颗粒 退火 光学吸收
采用MEVVA源(metal vapor vacuum arc ion source)引出的强束流脉冲Ag离子注入到SiO2玻璃,通过电镜观察和分析纳米颗粒的形貌和结构,从电镜照片可知样品中形成了大致呈球形的Ag纳米颗粒。将样品在氧化(空气)和还原(80%N2+20%H2)气氛下退火,由所测光谱曲线看出随着退火温度的升高,共振吸收峰的峰强渐渐减弱,峰位发生红移。根据Drude-Sommerfeld自由电子气模型,并考虑电子带间转换对介电函数的贡...
http://www.polymer.cn/research/dis_info1145
 
高介电HfO2薄膜的制备及其结构和界面特性研究
关键字:等离子体氧化 氧化铪 高介电薄膜 制备 界面
报道了用低温等离子体直接氧化溅射金属铪膜的方法制备高介电HfO2薄膜。研究了退火温度及气氛对薄膜的结构和界面特性的影响。傅立叶变化红外测试结果表明:界面的主要成分为SiO2,氧气气氛下的高温退火将导致界面SiO2的不可控制的生长。高纯的N2退火导致了界面层的分解,引起Si-O键的振动峰位的轻微移动。
http://www.polymer.cn/research/dis_info697
 
高分子在界面上的构象行为
关键字:高分子表征,石英晶体微天平,表面等离子体共振, 固-液界面,高分子刷
界面上高分子的构象行为对于界面的物理和化学性质至关重要。目前,对于高分子在界面上的构象行为特别是动态行为的表征仍面临许多挑战。本文中,作者利用带有耗散测量功能的石英晶体微天平(QCM-D)和表面等离子体共振仪(SPR)等界面表征手段,对固体表面接枝中性高分子链、聚电解质链及两性聚电解质链的构象行为进行了系统研究。研究结果表明,QCM-D 的频率变化反映接枝高分子链的质量变化或接枝高分子层的厚度变化,而耗散因子变...
http://www.polymer.cn/research/sy_info16554
 
嵌段共聚物薄膜表面微米·纳米多级有序结构的构筑
关键字:嵌段共聚物,PS微球,微纳结构,等离子体刻蚀
    除了化学组成和宏观结构,材料表面的性能很大程度取决于表面的微纳米结构。高分子表面微纳米结构的构筑在浸润性调控、薄面的光学性能增强、微流体输运和控制、药物控制释放、组织工程材料和微电子器件的制备等方面有着非常重要的意义和应用前景。本文结合了嵌段共聚物和胶体粒子自组装,通过胶体粒子刻蚀对嵌段共聚物薄膜进行图案化刻蚀,制备得到了微米一纳米多级有序结构。    我们...
http://www.polymer.cn/research/sy_info16081
 
高分子在界面上的构象行为
关键字:高分子表征,石英晶体微天平,表面等离子体共振, 固-液界面,高分子刷
界面上高分子的构象行为对于界面的物理和化学性质至关重要。目前,对于高分子在界面上的构象行为特别是动态行为的表征仍面临许多挑战。本文中,作者利用带有耗散测量功能的石英晶体微天平(QCM-D)和表面等离子体共振仪(SPR)等界面表征手段,对固体表面接枝中性高分子链、聚电解质链及两性聚电解质链的构象行为进行了系统研究。研究结果表明,QCM-D 的频率变化反映接枝高分子链的质量变化或接枝高分子层的厚度变化,而耗散因子变...
http://www.polymer.cn/research/ct_info1188
 
高介电HfO2薄膜的制备及其结构和界面特性研究
关键字:等离子体氧化 氧化铪 高介电薄膜 制备 界面
报道了用低温等离子体直接氧化溅射金属铪膜的方法制备高介电HfO2薄膜。研究了退火温度及气氛对薄膜的结构和界面特性的影响。傅立叶变化红外测试结果表明:界面的主要成分为SiO2,氧气气氛下的高温退火将导致界面SiO2的不可控制的生长。高纯的N2退火导致了界面层的分解,引起Si-O键的振动峰位的轻微移动。
http://www.polymer.cn/research/ct_info266
 
 
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