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您现在的位置:中国聚合物网 > 资料 > 安捷伦 微波 等离子体 原子发射光谱仪 元素分析 的搜索结果 共有结果357,当前从第31条到第40条,本次搜索耗时0.0158235
 
NH3等离子体处理PET表面接枝氨基酸的研究
关键字:等离子体;PET膜;谷氨酸;抗凝血性
用氨气等离子处理聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜,在表面引入活性基团氨基,并通过戊二醛接枝谷氨酸。利用接触角,全反射傅立叶红外光谱(ATR-FTIR),光电子能谱(XPS)和体外血液相容性实验表征接枝改性后的膜的表面结构和性能,比较了只用NH3等离子体处理的膜和接枝谷氨酸后的膜的性能。结果表明,两种改性膜亲水性均提高,70W放电功率下改性的膜血液相容性改善效果最好,用NH3等离子体处理的膜比接枝谷氨酸的效果好。
http://www.polymer.cn/research/dis_info2858
 
低温等离子体引发丙烯酸在聚苯硫醚非织毡上的接枝聚合
关键字:聚苯硫醚 丙烯酸 等离子体 接枝聚合
以低温等离子体引发丙烯酸(AA)对聚苯硫醚(PPS)非织毡进行接枝,程重发测定接枝率,用扫描电镜观察表明发生了接枝聚合反应。研究了等离子体引发条件对接枝反应的印象,以及接枝反应条件对接枝率的影响。
http://www.polymer.cn/research/dis_info2045
 
溶液注入热等离子体中直接制备纳米结构热障涂层
关键字:等离子体 氧化锆 热障涂层 纳米结构 热导率
采用一种新的方法,将Y2O3稳定的ZrO2前驱体溶液雾化注入直流等离子体中直接制备热障涂层。扫描电镜、透射电镜、X射线衍射分析、激光闪烁法分别观察分析了涂层的显微组织、纳米晶粒、相结构和热导率,排水法、冷热冲击法分别检测了涂层密度和热循环性能。实验结果显示:等离子体喷涂液体制备出来的热障涂层不具有层状组织,晶粒尺寸小于100nm,组成相为四方相,硬度为350左右,热导率在1.2~1.5 W/m·K范围,涂层中存在...
http://www.polymer.cn/research/dis_info651
 
等离子体氧化法TiO2、TiO2(W)薄膜的制备及性能
关键字:锐钛型 金红石 微等离子体氧化 薄膜
利用微等离子体氧化方法,在纯Ti金属表面制备TiO2、TiO2(W)薄膜,并用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)初步研究了薄膜的组织结构和表面形貌。在不同的条件下,得到三种不同类型结构组成的薄膜:单一TiO2的锐钛型结构、单一TiO2金红石结构及TiO2(W)薄膜;同时对薄膜的催化特性进行了初步的研究。
http://www.polymer.cn/research/dis_info143
 
等离子体氧化法TiO2、TiO2(W)薄膜的制备及性能
关键字:锐钛型 金红石 微等离子体氧化 薄膜
利用微等离子体氧化方法,在纯Ti金属表面制备TiO2、TiO2(W)薄膜,并用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)初步研究了薄膜的组织结构和表面形貌。在不同的条件下,得到三种不同类型结构组成的薄膜:单一TiO2的锐钛型结构、单一TiO2金红石结构及TiO2(W)薄膜;同时对薄膜的催化特性进行了初步的研究。
http://www.polymer.cn/research/ct_info48
 
氩气等离子体引发苯乙烯马来酸酐共聚合反应
关键字:低温等离子体聚合,交替结构,自由基聚合
在烧瓶中依次加入精制St和丙酮,按一定单体摩尔比称取的MAH,搅拌至MAH溶解。通氩气以排尽体系中空气,调整气体流速为80 mL/min,放电处理一定时间后,保温后聚合为30分钟。产物以无水乙醇沉淀,过滤,真空干燥备用。以红外光谱仪(Bio-Rad FTS 6000)和1H-NMR和13C-NMR(氘代丙酮作溶剂)对产物结构进行表征。
http://www.polymer.cn/research/dis_info9599
 
等离子体处理对RPUF表面及RPUF/涂层界面结合的影响
关键字:聚氨酯泡沫塑料,等离子体处理,RPUF/涂层界面
射频处理后聚氨酯泡沫塑料(RPUF)表面的形貌将发生有规律的变化。
http://www.polymer.cn/research/dis_info7776
 
聚合物CO2等离子体表面修饰及聚丙烯/聚苯乙烯
关键字:CO2等离子体,聚合物,增容作用
高分子材料的等离子体表面修饰与改性是利用非聚合性气体,如Ar、N2、H2、O2等的辉光放电等离子体对高分子材料进行表面改性的一种新技术。特别是对大量使用的塑料、纤维和高分子薄膜等能有效改善其表面特性达到功能化的目的,如提高材料表面耐磨性、粘附性、粘润性和印刷性等。本文除研究聚合物材料表面修饰外,还集中研究了CO2等离子体对PP/PS非相容体系的增容作用。
http://www.polymer.cn/research/dis_info7653
 
硅粉在冷等离子体中的刻蚀纯化
关键字:粉粒表面刻蚀,刻蚀纯化,太阳级硅,直流冷等离子体
介绍了一种用直流辉光放电产生的冷等离子体对硅粉刻蚀纯化的方法。实验是在氩气氛中进行,结果表明硅粉纯度可由97.66%提高到98.47%。处理后的硅粉还可进行熔化-固化-粉碎再处理,因此是一种技术上可行的太阳级硅制备新方法。文中还应用反应室鞘层厚度、硅粉沉降平均速度、考虑高能粒子刻蚀作用的刻蚀速率方程等进行理论分析,结果显示,在一定的工艺参数下,刻蚀提纯是有效的。这也为粉体表面刻蚀研究提供了新的思路。
http://www.polymer.cn/research/dis_info7047
 
等离子体方法以及化学处理对Ti-O 薄膜进行活化改性的研究
关键字:钛氧膜,等离子体活化,酸活化,羟基
采用磁控溅射法制备Ti-O 薄膜,然后采用等离子体浸没离子注入设备,以氢气作为离子注入源,轰击至钛氧薄膜表面,使其产生羟基基团。并对注入后样品进行酸活化,以期得到更多的羟基。采用傅立叶红外光谱仪(FTIR)、X 射线衍射(XRD)、X 射线光电子能谱仪(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)等对材料表面的结构、成份、官能团变化进行表征。研究结果显示,Ti-O 薄膜经H+注入后再进行活化,磁控溅射Ti-O 薄膜得...
http://www.polymer.cn/research/dis_info6760
 
 
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