首页 | 资讯中心 | 科学研究 | 产业发展 | 人才交流 | 化工商贸 | 会展信息 | 实用网址 | 论坛

资讯   产品   厂商   资料   资源   会展   论坛   全站

您现在的位置：中国聚合物网 > 资料 > “hplc 实验室设备 等离子体 衍射仪 质谱仪” 的搜索结果 共有结果166,当前从第1条到第10条,本次搜索耗时0.0156362秒

热等离子体 关键字：等离子体, 　　通常，热等离子体是气体在大气压下电晕放电产生，冷等离子体由低压气体辉光放电形成。 　　冷等离子体装置是在密封容器中设置两个电极形成电场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长，受电场作用，它们发生碰撞而形成等离子体，这时会发出辉光，故称为辉光放电处理。辉光放电时的气压大小对材料处理效果有很大影响，另外与放电功率，气体成分及流动速度、材料类型等... http://www.polymer.cn/Industry/industry129.html   氢、氧等离子体处理对氮化硼薄膜场发射特性的影响 关键字：氮化硼薄膜 场发射 氢等离子体 氧等离子体 利用射频磁控溅射方法，在n型（100）Si基底上沉积了氮化硼（BN）薄膜，红外光谱测试表明，所有样品为六角氮化硼（h-BN）结构。经过氢、氧等离子体处理之后，在超高真空系统中测量了BN薄膜的场发射特性。实验结果表明，经过氢等离子体处理后BN薄膜的场发射开启电场明显降低，发射电流明显升高；而氧等离子体处理前后对h-BN薄膜的场发射特性影响不大，只是发射电流略有降低。不同样品的Fowler-Nordheim(F-N)曲线均为直线，表明电子发... http://www.polymer.cn/research/ct_info174   氢、氧等离子体处理对氮化硼薄膜场发射特性的影响 关键字：氮化硼薄膜 场发射 氢等离子体 氧等离子体 利用射频磁控溅射方法，在n型（100）Si基底上沉积了氮化硼（BN）薄膜，红外光谱测试表明，所有样品为六角氮化硼（h-BN）结构。经过氢、氧等离子体处理之后，在超高真空系统中测量了BN薄膜的场发射特性。实验结果表明，经过氢等离子体处理后BN薄膜的场发射开启电场明显降低，发射电流明显升高；而氧等离子体处理前后对h-BN薄膜的场发射特性影响不大，只是发射电流略有降低。不同样品的Fowler-Nordheim(F-N)曲线均为直线，表明电子发... http://www.polymer.cn/research/dis_info445   氢、氧等离子体处理对氮化硼薄膜场发射特性的影响 关键字：氮化硼薄膜 场发射 氢等离子体 氧等离子体 利用射频磁控溅射方法，在n型（100）Si基底上沉积了氮化硼（BN）薄膜，红外光谱测试表明，所有样品为六角氮化硼（h-BN）结构。经过氢、氧等离子体处理之后，在超高真空系统中测量了BN薄膜的场发射特性。实验结果表明，经过氢等离子体处理后BN薄膜的场发射开启电场明显降低，发射电流明显升高；而氧等离子体处理前后对h-BN薄膜的场发射特性影响不大，只是发射电流略有降低。不同样品的Fowler-Nordheim(F-N)曲线均为直线，表明电子发... http://www.polymer.cn/research/ct_info174   氢、氧等离子体处理对氮化硼薄膜场发射特性的影响 关键字：氮化硼薄膜 场发射 氢等离子体 氧等离子体 利用射频磁控溅射方法，在n型（100）Si基底上沉积了氮化硼（BN）薄膜，红外光谱测试表明，所有样品为六角氮化硼（h-BN）结构。经过氢、氧等离子体处理之后，在超高真空系统中测量了BN薄膜的场发射特性。实验结果表明，经过氢等离子体处理后BN薄膜的场发射开启电场明显降低，发射电流明显升高；而氧等离子体处理前后对h-BN薄膜的场发射特性影响不大，只是发射电流略有降低。不同样品的Fowler-Nordheim(F-N)曲线均为直线，表明电子发... http://www.polymer.cn/research/dis_info445   利用等离子体技术在PLGA表面固定胶原的研究 关键字：等离子体，PLGA，胶原，表面 由于胶原是细胞外基质的主要成份，在乙丙交酯共聚物(PLGA)表面接枝胶原，可提高其细胞相容性。本文选择等离子体对材料表面进行活化处理后，来固定胶原。 http://www.polymer.cn/research/dis_info15540   聚合物表面等离子体处理及其界面间的相互作用* 关键字：等离子体处理 本文首先采用CO2 等离子体对聚丙烯（PP）和聚苯乙烯（PS）进行表面改性，用X光电子能谱（XPS）聚丙烯和聚苯乙烯表面的化学结构进行了表征。利用动态流变方法研究了PP，PS和PP+PS+PP多层膜的流变行为，讨论了聚丙烯和聚苯乙烯改性表面间的相互作用。对CO2等离子体改性聚丙烯/聚苯乙烯合金的散射强度进行测定，并计算了合金体系的相间过度层厚度和积分不变量。关键词：聚合物表面CO2等离子体改性，聚丙烯/聚苯乙烯多层膜的流变... http://www.polymer.cn/research/dis_info10910   氨/氧化硫等离子体改性PET膜的研究 关键字：血液相容性，NH3/SO2等离子体，PET膜 聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜的亲水性差，血液相容性不理想。对PET膜表面进行改性是提高其血液相容性的最佳办法，已报道的聚合物表面肝素化[1~5]是提高材料抗凝血性的通用方法，但尚欠理想。本文采用RF等离体技术，用NH3/SO2混合气体等离子体对PET膜进行表面改性，期望在其表面引入类肝素结构的功能活性基团及负荷，得到化学键合的特征官能基团修饰的PET表面，考察PET膜改性表面的结构与血液相容性等，为表面抗凝血改性进行新的探... http://www.polymer.cn/research/dis_info10649   等离子体两种隐身机理分析 关键字：等离子体,隐身机理,吸收衰减,折射效应 等离子体是一种新的隐身技术，日益受到人们广泛的关注。分别从等离子体的折射效应和吸收衰减两方面论述了等离子体隐身的基本原理，理论推导分析和编程计算研究表明：等离子体隐身效果明显，具有很好的应用前景。 http://www.polymer.cn/research/dis_info6385   冷等离子体中的粉体研究 关键字：冷等离子体,粉体表面刻蚀,硅粉纯化 介绍了在冷等离子体中粉体研究的几个重要成果，分析了粉体在两种反应室结构中的运动、沉降时间及刻蚀状况。理论分析和实验结果表明带振动阴极的反应室在粉体表面刻蚀方面比传统阴极结构的反应室要优越得多。研究表明冷等离子体对硅粉纯化具有应用前景。 http://www.polymer.cn/research/dis_info6107

1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 下一页

相关搜索:

HPLC        等离子体        聚合物等离子体改性        低温等离子体        实验室设备        HPLCclass        X射线衍射仪        表面等离子体共振        冷等离子体        衍射仪

- 关于我们 - 网站导航 - 商业合作 - 诚聘英才 - 广告服务 - 联系我们 -

Copyright ? 2007 Polymer.cn All rights reserved 中国聚合物网 版权所有