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国家自然科学基金面上项目:高性能P沟道氧化物薄膜晶体管的制备及器件集成
项目类别:国家自然科学基金面上项目
项目编号:51672142
项目规模:62万元
参与人员:单福凯等9人
起止日期:2017-2020

面对低功耗和高性能互补金属氧化物半导体(CMOS)集成电路的迫切需求,P型氧化物材料和P沟道薄膜晶体管(TFT)的研究具有重要的意义。本项目以溶液法制备高质量P型氧化物薄膜为基础,开发低温、无毒、环境友好的P型氧化物材料;以实现高迁移率、高稳定性为目标,为CMOS集成电路提供低成本、高性能的P型氧化物材料。

本课题包括四部分:

1) 利用‘水性’sol-gel技术和‘UV光退火’低温工艺制备高质量P型氧化物薄膜;

2)通过设计掺杂实验,优化P型氧化物薄膜的能带结构,得到高空穴迁移率的P型氧化物材料;

3)将制备的高性能P沟道薄膜与溶液法制备的超薄高k介电层集成,实现基于超薄高k介电层的高性能、低压操作P沟道TFT;

4)深入探索溶液法制备的低压、高性能P型沟道层TFT在CMOS集成电路中的应用,比如在反相器和环形振荡器中的应用。