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膜厚对四面体非晶碳膜机械性能的影响 |
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| 资料类型： |
PDF文件
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| 关键词： |
四面体非晶碳 过滤阴极真空电弧 机械性能 应力 |
| 资料大小： |
125K |
| 所属学科： |
性能表征 |
| 来源： |
来源网络 |
| 简介： |
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采用过滤阴极真空电弧技术以相同的工艺条件在p（100）单晶硅衬底上制备了不同厚度的四面体非晶碳薄膜，并利用表面轮廓仪测试薄膜的厚度和应力，利用纳米压入仪测试薄膜的硬度、杨氏模量和临界刮擦载荷。试验表明，在一定的扫描波形条件下，薄膜大约以0.7nm/s的沉积速率稳定生长。随着膜厚的增加，薄膜的应力持续降低，当膜厚超过30nm时，应力将低于5GPa；当膜厚超过300nm时，硬度和杨氏模量分别将近70GPa和750GPa，已经十分接近体金刚石的性能指标。另外，随着膜厚增加所产生的应力变化，也导致了可见光拉曼光谱非对称宽峰的峰位逐渐向低频偏移。 |
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| 上传人： |
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| 上传时间： |
2007-07-11 14:31:26 |
| 下载次数： |
586 |
| 消耗积分： |
2
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