含多面齐聚倍半硅氧烷的偶氮苯液晶共聚物的合成及其光化学行为，2009年全国高分子学术论文报告会（8.18-8.22，天津）-中国聚合物网,论文下载

含多面齐聚倍半硅氧烷的偶氮苯液晶共聚物的合成及其光化学行为

资料类型：

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关键词：

POSS 液晶高分子偶氮苯光致异构化

资料大小：

159K

所属学科：

分子表征

来源：

2009年全国高分子学术论文报告会（8.18-8.22，天津）

简介：

通过分子设计，利用氨基POSSPOSS(AC-POSS)。以AIBN为引发剂，利用AC-POSS与甲基丙烯酸偶氮苯液晶单体的自由基共聚反应，合成液晶高分子/POSS共聚物(LCP-POSS)，确认产物结构。[1]通过一级光反应动力学考察POSS对LCP-POSS的反-顺光异构化反应的影响。[2]A0、At、A∞分别为光照前(t＝0)、光照t、光照t＝∞时在360nm处的吸光度，ktc为反式向顺式转变(π-π*电子跃迁)的一级反应速率常数，根据下式计算出ln(A0－A∞)/(At－A∞)值，然后作将之与t图（右图），直线斜率即为异构化速率常数ktc：0ln。LCP-POSS/DMF溶液的反-顺异构化速率常数kt1(0.16min-1)略小于LCP/DMF的反-顺光异构化速率常数ktc2(0.17min-1)。

作者：

王小涛,杨志方,廖永贵*,解孝林

上传时间：

2009-09-25 11:55:03

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