磁控溅射沉积的Ge/ZnO复合多层膜的光致发光特性研究，2004年第五届中国功能材料及其应用学术会议（9.12-9.16，北京.秦皇岛）-中国聚合物网,论文下载

磁控溅射沉积的Ge/ZnO复合多层膜的光致发光特性研究

资料类型：

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关键词：

磁控溅射 Ge/ZnO多层膜光致发光

资料大小：

133K

所属学科：

分子表征

来源：

2004年第五届中国功能材料及其应用学术会议（9.12-9.16，北京.秦皇岛）

简介：

采用交替溅射Ge和ZnO靶的方法在Si(100)单晶基片上沉积了Ge/ZnO复合多层膜，并对其在空气中不同温度下进行了快速加热处理。在高温处理中部分Ge成分会被氧化转变成Ge的氧化物，XRD结果表明所制备的薄膜是由ZnO、Ge、GeO和GeO2多晶颗粒组成的复合薄膜，且随着温度的升高晶粒的尺寸加大，结晶度提高。光致发光谱的测量显示，经过高温处理过的Ge/ZnO复合多层膜可以在395nm左右发出强的紫光，随着温度的增加紫峰变尖锐且强度大大提高，并有590nm的黄发光峰出现。紫峰的增强是由于薄膜结晶度提高导致激子复合增加的结果，黄峰是由于Ge颗粒引起的局域态相关的跃迁而产生的。

作者：

范东华宁兆元

上传时间：

2007-07-17 16:11:07

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