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资料类型: |
PDF文件
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关键词: |
柱面扩展 生长习性 透过率 KDP晶体 |
资料大小: |
98K |
所属学科: |
分子表征 |
来源: |
2004年第五届中国功能材料及其应用学术会议(9.12-9.16,北京.秦皇岛) |
简介: |
目前在KDP/KD*P晶体的实际生长过程中,仍以传统降温法为主。在传统降温速度的基础上适当提高降温速度,可以加快KDP/KD*P晶体的生长速度,但与此同时有可能产生柱面扩展。为此,我们对不同生长环境下的KDP/KD*P晶体生长过程中柱面扩展进行了一系列研究。实验中所用KDP原料和去离子水均与生长大口径KDP晶体相同,其它各项条件也尽量模拟大口径KDP晶体生长过程中的实际情况。在晶体生长实验过程中通过研究不同条件下KDP/KD*P晶体的柱面扩展情况来研究柱面扩展对KDP/KD*P晶体光学质量影响的共同特点。通过分析和研究实验数据及晶体生长过程,我们认为在正常生长条件下引起柱面扩展的主要因素有两个:溶液的过饱和度和籽晶柱面存在的缺陷。扩展部分的晶体的光学质量与本体部分差别较大,扩展部分对光的透过率在紫外部分下降很快,明显低于本体部分在这一波段的透过率。本体部分和扩展部分对光的透过率在其它波段差别不十分突出。 |
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作者: |
李云南 房昌水 孙洵 顾庆天 王圣来 王坤鹏 王波 刘冰 张建芹
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上传时间: |
2007-07-18 12:19:13 |
下载次数: |
612 |
消耗积分: |
2
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