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| 资料类型： |
PDF文件
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| 关键词： |
立方氮化硼薄膜 表面 X射线光电子能谱 |
| 资料大小： |
247K |
| 所属学科： |
分子表征 |
| 来源： |
2004年第五届中国功能材料及其应用学术会议（9.12-9.16，北京.秦皇岛） |
| 简介： |
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研究立方氮化硼薄膜表面的性质对于研究立方氮化硼薄膜的成核机理和应用，具有重要的价值。本文用XPS对立方氮化硼薄膜表面进行研究，并对有关问题进行了讨论。XPS分析表明，立方氮化硼薄膜表面除了B、N外，还含有C和O。从XPS谱图计算得到含有立方相的氮化硼薄膜的N/B为0.90，较接近于氮化硼的理想化学配比1:1；不含立方相的氮化硼薄膜的N/B为0.86，离氮化硼的理想化学配比1:1较远。计算表明立方氮化硼薄膜的顶层六角相的厚度约为0.8nm。 |
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| 作者： |
邓金祥 陈浩 陈光华 刘钧锴 宋雪梅 朱秀红 王波 严辉
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| 上传时间： |
2007-07-06 15:58:47 |
| 下载次数： |
617 |
| 消耗积分： |
2
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