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WO3薄膜退火热处理工艺的研究 |
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| 资料类型： |
PDF文件
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| 关键词： |
WO3 SEM XRD 薄膜 退火 |
| 资料大小： |
272K |
| 所属学科： |
分子表征 |
| 来源： |
2004年第五届中国功能材料及其应用学术会议（9.12-9.16，北京.秦皇岛） |
| 简介： |
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采用真空镀膜工艺在微晶玻璃衬底上沉积了WO3薄膜，WO3薄膜从300~600℃分别进行了退火热处理,随着退火热处理温度的不同，WO3薄膜从晶粒尺寸上以及晶相上都发生了较大的变化，并用SEM、XRD等手段进行了分析，随着退火热处理温度的升高，WO3晶粒逐渐增大，并实现了从非晶向晶态的转变，最终得到了六方结构并且是在[100]方向上择优取向的WO3薄膜，获得了稳定性较好的工艺条件，为进一步开发研制WO3气敏元件提供了技术基础。 |
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| 作者： |
陈曦 谢光忠 蒋亚东
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| 上传时间： |
2007-07-06 16:16:06 |
| 下载次数： |
617 |
| 消耗积分： |
2
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