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硅烷预处理铜箔在氯化钠中的腐蚀防护研究 |
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| 资料类型： |
PDF文件
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| 关键词： |
铜箔 硅烷 腐蚀防护 动电位极化 电化学阻抗光谱 |
| 资料大小： |
294K |
| 所属学科： |
分子表征 |
| 来源： |
2011年全国高分子学术论文报告会（2011.9.24~28，大连） |
| 简介： |
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铜箔被广泛的应用在电子工业，但极易腐蚀。传统的以六价铬为基础的处理工艺对人体和环境有极大的伤害，许多国家都在积极研究取代六价铬的工艺技术。硅烷偶联剂由于其和金属很好的粘结性能同时由于其很好的疏水性能和致密的结构受到广泛的关注。近些年来有大量关于用硅烷对金属进行预处理来提高金属的抗腐蚀效果的报道，比如铁，铜，铝及其合金。铜箔还鲜有报道。 |
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| 作者： |
刘峰，苗伟俊，张余宝
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| 上传时间： |
2012-02-01 13:20:37 |
| 下载次数： |
2 |
| 消耗积分： |
4
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| cxd1010 2012-08-27 20:09:35 |
| 很好，非常有帮助。谢谢 |
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