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| 资料类型： |
PDF文件
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| 关键词： |
纳米压印 紫外光刻胶 点击化学 低倍多聚笼状硅氧烷化合物 |
| 资料大小： |
1052K |
| 所属学科： |
分子表征 |
| 来源： |
2011年全国高分子学术论文报告会（2011.9.24~28，大连） |
| 简介： |
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我们设计并开发了一种基于硫醇点击化学的新型紫外光刻胶，并成功将其应用于纳米压印中。该紫外光刻胶主要成分包括含巯基的低倍多聚笼状硅氧烷化合物（POSS-SH），反应性单体甲基丙烯酸苄脂（BMA），及交联剂三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯（TMPT）。 |
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| 作者： |
林宏，万霞，姜学松，王庆康，印杰
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| 上传时间： |
2012-02-28 14:35:26 |
| 下载次数： |
3 |
| 消耗积分： |
4
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