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用于制作光波导器件的含氟光刻胶的合成与表征 |
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| 资料类型： |
PDF文件
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| 关键词： |
光波导 含氟光刻胶 光损 |
| 资料大小： |
151K |
| 所属学科： |
分子表征 |
| 来源： |
2007年全国高分子学术论文报告会（10.9-10.13，成都） |
| 简介： |
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聚合物光波导材料由于其优良的机械性能，热光和电光效应，及器件易于加工，制作费用低等特点，引起了人们的广泛关注[1]。其中作为主体材料用于光波导制作的光刻胶材料，还因自身的光敏性能大大缩减了制作过程，并能得到具有规整结构的光波导器件[2]。本文介绍了一种节约成本、制备方法简便、低光损的含氟光刻胶。这种新型光刻胶有着很好的溶解性，固化交联后具有较好的热稳定性,并且材料中氟原子取代了部分氢原子使其在近红外波段尤其是光的通讯窗口（1310nm和1550nm）的吸收较小，有效的降低了光损，所以其在光波导材料方面有很好的应用前景。 |
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| 作者： |
费旭 万莹 崔占臣
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| 上传时间： |
2007-11-19 18:00:28 |
| 下载次数： |
494 |
| 消耗积分： |
2
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| bluesnow 2009-07-17 9:39:52 |
| 资料有价值,但是不够详细 |
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