氢、氧等离子体处理对氮化硼薄膜场发射特性的影响，2004年第五届中国功能材料及其应用学术会议（9.12-9.16，北京.秦皇岛）-中国聚合物网,论文下载

氢、氧等离子体处理对氮化硼薄膜场发射特性的影响

资料类型：

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关键词：

氮化硼薄膜场发射表面处理阈值电场发射电流

资料大小：

106K

所属学科：

分子表征

来源：

2004年第五届中国功能材料及其应用学术会议（9.12-9.16，北京.秦皇岛）

简介：

用RF磁控溅射的方法在Si（100）基底上沉积了纳米氮化硼薄膜，然后分别用氢、氧等离子体对薄膜表面进行了处理，用红外光谱、原子力显微镜、光电子能谱以及场发射试验对薄膜进行了研究，结果表明氢等离子体使BN薄膜表面NEA增加，阈值电场降低，发射电流明显增大。氧等离子体处理对BN薄膜的场发射特性影响不大，只是发射电流略有降低，这只能是由于氧化层存在的原因。

作者：

李卫青顾广瑞李英爱何志冯伟刘丽华赵春红赵永年

上传时间：

2007-07-11 14:01:51

下载次数：

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