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| 资料类型： |
PDF文件
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| 关键词： |
金刚石膜 氮气 生长速率 表面形貌 膜品质 EA-CVD方法 |
| 资料大小： |
126K |
| 所属学科： |
分子表征 |
| 来源： |
2004年第五届中国功能材料及其应用学术会议（9.12-9.16，北京.秦皇岛） |
| 简介： |
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采用电子辅助化学气相沉积法(EA-CVD)制备掺氮金刚石薄膜，研究了不同氮气流量对金刚石膜的生长速率、表面形貌和膜品质的影响。实验发现，在较低的氮气流量下，金刚石膜的生长速率增加，在较高的氮气流量下生长速率减小。利用SEM、Raman光谱、XPS等测试手段对样品的表面形貌及品质进行了表征。结果表明，当氮气流量为4sccm时金刚石膜的结晶比较完整；当氮气流量为8sccm时生成与(100)面共存的“菜花状”。氮气流量的进一步增加，“菜花”表面(100)晶面显露的数量明显降低，非金刚石碳含量和氮杂质含量增加，金刚石膜的品质明显下降。 |
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| 作者： |
李明吉 吕宪义 孙宝茹 金曾孙
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| 上传时间： |
2007-07-11 14:32:37 |
| 下载次数： |
618 |
| 消耗积分： |
2
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