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聚硅氧烷界面取向红外光谱表征 |
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| 资料类型： |
PDF文件
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| 关键词： |
聚硅氧烷 FTIR 镜反射 OMNI 采样 |
| 资料大小： |
161K |
| 所属学科： |
分子表征 |
| 来源： |
2007年全国高分子学术论文报告会（10.9-10.13，成都） |
| 简介： |
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有机硅材料以其优良的耐候性，热稳定性、良好的弹性，抗氧化和绝缘能力，以及较低的生产成本，已经成为学术界和工业界共同关注和研究的热点之一。聚硅氧烷（ploysiloxane）作为有机硅材料中最主要的品种，已经被广泛应用于玻璃幕墙硅酮密封胶等建筑材料中。[2]常见的表征聚硅氧烷结构的手段有：XPS，TGA，DSC，ATR-FTIR以及SEM等，分别对其所含元素，热性能，界面状态及微观形貌进行了研究。其中，FTIR凭借其成熟的手段以及丰富的测试附件（ATR，镜反射等），在表征聚硅氧烷界面结构方面具有其他测试手段所不可替代的作用。本文即利用FTIR中的三种常用附件：透射，镜反射以及OMNI采样器，对相同牌号的聚硅氧烷进行了测试，并表征其结构。 |
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| 作者： |
赖祖亮 武培怡
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| 上传时间： |
2007-12-13 14:52:21 |
| 下载次数： |
412 |
| 消耗积分： |
2
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| 立即下载： |
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