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AlN/Si衬底上ZnO薄膜的择优取向生长 |
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| 资料类型： |
PDF文件
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| 关键词： |
ZnO薄膜 磁控溅射 择优取向 |
| 资料大小： |
65K |
| 所属学科： |
分子表征 |
| 来源： |
2004年第五届中国功能材料及其应用学术会议（9.12-9.16，北京.秦皇岛） |
| 简介： |
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当ZnO薄膜直接沉积在Si衬底上时，由于ZnO与Si的晶格失配度大，不易于获得高质量的ZnO薄膜。因此，选择合适的衬底材料沉积ZnO薄膜，对提高其质量非常重要。本文采用射频磁控溅射法，通过在Si（100）衬底上预沉积AlN作为ZnO薄膜生长的缓冲层，获得了择优取向的ZnO薄膜。我们还讨论了ZnO薄膜在AlN/Si衬底上的取向生长机理。 |
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| 作者： |
王磊 冷杉 王波 黄安平 李小换 朱满康 严辉
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| 上传时间： |
2007-07-13 14:46:34 |
| 下载次数： |
615 |
| 消耗积分： |
2
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