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活性聚合合成POSSCl/PMMA  
活性聚合合成POSSCl/PMMA
资料类型: 暂无
关键词: 活性  聚合  合成  POSSCl  PMMA  
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所属学科: 通用高分子材料
来源: 来源网络
简介:
王文平合肥工业大学,化学工程学院应用化学系 摘要:笼状结构倍半硅氧烷(POSS)是一种无机-有机杂化物。其芯部或中心是一个由硅和氧所构成的无机骨架,外层由有机取代基R构成。本文采用带Si-Cl键的单功能基T-8POSS纳米分子为种子,POSS中的R为环戊基,以甲基丙烯酸甲酯为单体进行活性聚合合成POSS/PMMA复合物。研究中尝试了用原子转移自由基聚合(ATRP)方法:以商品化的POSSCl分子为引发剂,用氯化亚铜/联二吡啶催化体系,在110℃下与甲基丙烯酸甲酯聚合。研究发现POSSCl做为引发剂,使用ATRP方法与甲基丙烯酸甲酯聚合能够合成POSS/PMMA。Si-Cl键可以作为ATRP方法引发基团引发单体进行聚合。活性聚合实现了POSS在聚合物分子中的单分散。 论文来源:2005全国高分子学术论文报告会 PDF论文在线浏览
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上传时间: 2005-11-24 15:58:39
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