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纳米SiO2粉体有机化改性程度的表征及评价 |
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PDF文件
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| 关键词： |
纳米 SiO 粉体 机化 改性 程度 表征
评价 |
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| 所属学科： |
通用高分子材料 |
| 来源： |
来源网络 |
| 简介： |
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高轶，赵素合北京化工大学，教育部纳米材料重点实验室，北京 100029
摘要：研究了三种硅烷偶联剂对纳米SiO2粉体的有机化及其改性效果的描述和评价。结果表明，硅烷偶联剂与纳米SiO2粉体（SiO2）在85～90℃下产生烷氧基与硅醇基的缩合反应。端基含氨基的硅烷偶联剂KH-792 对SiO2具有最佳的改性效果。采用红外光谱技术测定SiO2和改性纳米SiO2粉体（MSiO2）中硅羟基的峰面积，继而获得SiO2表面硅羟基的比含量。用比含量的减少量表征缩合程度，即SiO2粉体改性效果。随偶联剂用量的增加，MSiO2的缩合程度提高，填充胶料的模量、扯断强度增高，扯断伸长率和撕裂强度降低，焦烧时间缩短，硫化速度加快，使用3份KH-792可使SiO2粉体获得较优的改性效果。MSiO2/ S-SBR复合材料的△G′、tanδ明显小于SiO2/S-SBR胶料，TEM照片表明MSiO2在胶料中的分散性好，说明其与胶料的界面作用强，Payne效应小，内摩擦损耗低。
论文来源:2005全国高分子学术论文报告会
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| 上传人： |
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| 上传时间： |
2005-11-24 16:00:30 |
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