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精密仪器 光电
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高分子包埋金属离子的纳米结构与性能研究
关键字:自组装,金属离子,嵌段高分子,
光电
子性能
金属-高分子杂化材料兼具了金属离子和高分子材料两者的优点。本工作结合聚合物自组装的概念和原理,金属离子不仅扮演着发光中心的作用,也起着诱导聚合物体系进行自组装,进而决定了聚合物的形貌结构。通过调控聚合物的类型,各反应物配比和浓度等诸多因素,可以实现对金属高分子材料的可控制备,实现聚集体形貌可调,性质可控。
http://www.polymer.cn/research/sy_info16959
共轭有机
光电
材料的合成方法研究
关键字:有机小分子太阳能电池,C-H键直接芳基化,吡咯并吡咯二酮
随着近年有机
光电
子学的快速发展,对共轭有机
光电
材料的合成方法也相应提出了更高要求。相比于传统的偶联反应,C-H键直接芳基化(DACH)反应具有高的原子经济性、步骤简化及成本低廉等优势。吡咯并吡咯二酮( DPP)是有机
光电
材料领域重要的结构单元,DPP类衍生物的合成一般采用Suzuki、Stille及Negishi等经典偶联反应。我们成功采用DACH反应设计合成了系列DPP衍生物,优化了反应条件,其中多种分子是传...
http://www.polymer.cn/research/sy_info15496
共轭有机
光电
材料的合成方法研究
关键字:有机小分子太阳能电池,C-H键直接芳基化,吡咯并吡咯二酮
随着近年有机
光电
子学的快速发展,对共轭有机
光电
材料的合成方法也相应提出了更高要求。相比于传统的偶联反应,C-H键直接芳基化(DACH)反应具有高的原子经济性、步骤简化及成本低廉等优势。吡咯并吡咯二酮( DPP)是有机
光电
材料领域重要的结构单元,DPP类衍生物的合成一般采用Suzuki、Stille及Negishi等经典偶联反应。我们成功采用DACH反应设计合成了系列DPP衍生物,优化了反应条件,其中多种分子是传...
http://www.polymer.cn/research/sy_info15495
碳纤维结构的常用表征技术
关键字: 碳纤维;表征;X射线衍射;透射电子显微镜;X
光电
子能谱;小角X射线散射
本文结合近几年的研究报道,归纳了决定碳纤维性能及应用的两个方面内部体结构和表面结构的一些常用表征技术。碳纤维聚集态的表征主要通过X- 射线衍射(广角、小角) 、电子衍射;碳纤维形态结构特征常用透射电子显微镜;碳纤维表面结构的表征方法有扫描电子显微镜(SEM) ,原子力显微镜(AFM) ,扫描隧道显微镜(STM) 以及扫描力显微镜(SFM) 。其中,SEM能够看到整个纤维的表面形貌,而AFM、STM、SFM用于表面...
http://www.polymer.cn/research/ct_info941
PVD法制备多晶碘化汞膜的
光电
特性研究
关键字:多晶 碘化汞 物理气相沉积 探测器
用热壁物理气相沉积法(Hot-Wall PVD)制备出晶体质量较好的多晶HgI2 膜,研究了生长参数对沉积膜质量的影响,对多晶HgI2 膜用金相显微镜、XRD、红外光谱进行了表征观察及对用多晶HgI2膜制备的探测器采用了暗电流测试;结果表明PVD法制备的多晶HgI2膜纯度高,结构完整性好,均匀性好,并且其相应器件有低的暗电流(电场0.2V/μm时,为25pA/mm2)。
http://www.polymer.cn/research/ct_info387
MW-ECR制备的氢化非晶硅
光电
特性研究
关键字:氢化非晶硅薄膜 暗电导激活能 光敏性
通过对热丝辅助微波电子回旋共振(HW-MW-ECRCVD)法制备的氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜进行暗电导与温度关系的测试,可得到暗电导激活能(Ea),并研究了Ea与a-Si:H薄膜光敏性(σph/σd)的关系;发现随着Ea 的增大,费米能级位置下移,缺陷态密度减少,薄膜的光敏性变好。
http://www.polymer.cn/research/ct_info383
超声热解法制备SnO2∶F薄膜加热管及其性能研究
关键字:薄膜技术 SnO2:F薄膜
光电
特性 超声喷涂热解法
采用超声喷涂热解淀积方法将SnO2∶F透明导电薄膜制备于耐高温的硼硅玻璃管内壁。XRD物相分析及SEM、STM形貌分析表明,SnO2∶F薄膜为多晶结构,平均粒径50nm。分析了薄膜中F取代SnO2中O的形成过程和薄膜电导率增强的机理,解释了不同的工艺条件对薄膜的结构、
光电
特性的影响,确定了制备SnO2∶F薄膜加热管的最佳工艺条件。该条件下制备的薄膜的电阻率达4×10-4Ω·cm,可见光透过率高于90%,功率密度平均可达35&nbs...
http://www.polymer.cn/research/ct_info302
用于微测辐射热计的氧化钒薄膜的
光电
性能研究
关键字:氧化钒 相变 红外吸收特性 热稳定性
采用磁控溅射方法在p-Si (100) 衬底上制备了VO2和择优取向的V6O13混合相成分的薄膜。利用X射线衍射 (XRD) 分析、原子力显微镜 (AFM)、傅立叶红外光谱 (FT-IR) 分析及四探针测试方法,研究了薄膜的相成分和红外吸收特性,并测试分析了薄膜的电学热稳定性。研究结果表明,通过这种方法制备的氧化钒薄膜具有较低的电阻率和较高的电阻温度系数(TCR),并且具有良好的热稳定性,可以作为微测辐射热...
http://www.polymer.cn/research/ct_info244
CdS/Cd纳米复合膜电化学膜模拟法制备及表征
关键字:纳米复合膜 电化学膜模拟法
光电
效应
采用电化学膜模拟法在混合表面活性剂(十六醇和蓖麻油)与低浓度的电解液(CdCl2和CH3CSNH2)之间阴极电沉积制备黑色薄膜。AFM观察得出,薄膜的平均晶粒粒径大约16nm。由纳米膜的XPS、XRD图谱分析得出,纳米膜是由硫化镉和单质镉的混晶构成,其摩尔比为1:2。在光照条件下,此纳米膜电极能够产生阳极
光电
流,说明光生电流主要靠空穴导电。紫外-可见吸收光谱表明,该纳米复合膜可作为太阳光谱的响应器件。
http://www.polymer.cn/research/ct_info83
立方氮化硼薄膜表面的XPS研究
关键字:立方氮化硼薄膜 表面 X射线
光电
子能谱
研究立方氮化硼薄膜表面的性质对于研究立方氮化硼薄膜的成核机理和应用,具有重要的价值。本文用XPS对立方氮化硼薄膜表面进行研究,并对有关问题进行了讨论。XPS分析表明,立方氮化硼薄膜表面除了B、N外,还含有C和O。从XPS谱图计算得到含有立方相的氮化硼薄膜的N/B为0.90,较接近于氮化硼的理想化学配比1:1;不含立方相的氮化硼薄膜的N/B为0.86,离氮化硼的理想化学配比1:1较远。计算表明立方氮化硼薄膜的顶层六角相的厚度约为0.8...
http://www.polymer.cn/research/ct_info46
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