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| 资料类型： |
PDF文件
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| 关键词： |
β-FeSi2 溅射气压 XRD SEM 椭偏光谱 |
| 资料大小： |
417K |
| 所属学科： |
分子表征 |
| 来源： |
2007年第六届中国功能材料及其应用学术会议暨2007国际功能材料专题论坛论文集(11.15-11.19，武汉) |
| 简介： |
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采用磁控溅射方法，在不同的溅射气压（Ar气0.5～3.0Pa）条件下沉积纯金属Fe到Si(100)衬底上,通过真空退火炉在800℃对样品进行保温2h，直接形成了正交的β-FeSi2薄膜，利用X射线衍射（XRD）、扫描电镜（SEM）、椭偏光谱仪，对不同溅射气压下合成的β-FeSi2薄膜的结晶特性、表面形貌及光学性能进行表征，研究了不同溅射气压对制备β-FeSi2薄膜的影响。结果表明：在1.5Pa时能形成较好的β-FeSi2薄膜，临界溅射气压在2.0Pa附近，当溅射气压低与临界值时，β-FeSi2薄膜的成核密度较高，且成核密度随溅射气压的增大而降低；当溅射气压超过临界值以后，β-FeSi2薄膜的成核密度基本不变；薄膜的折射率n随压强的增大而增大，消光系数k随压强的增大而减小。 |
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| 作者： |
曾武贤，谢 泉，梁 艳，张晋敏，肖清泉，杨吟野，任学勇
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| 上传时间： |
2008-09-08 14:38:45 |
| 下载次数： |
32 |
| 消耗积分： |
2
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