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| 资料类型： |
PDF文件
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| 关键词： |
langmuir-blodgett(LB)膜 光刻 聚合物 刻蚀 |
| 资料大小： |
588K |
| 所属学科： |
分子表征 |
| 来源： |
2007年第六届中国功能材料及其应用学术会议暨2007国际功能材料专题论坛论文集(11.15-11.19，武汉) |
| 简介： |
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合成并表征了N-十六烷基丙烯酰胺（HDA）和对叔丁基苯酚甲基丙烯酸酯（BPhMA）的共聚物p(HDA-BPhMA)s。当HDA含量较高时，共聚物可在气/液界面上形成稳定，排列紧密的单分子薄膜，并可以Y型膜的方式沉积在各种固体基片上，形成多层均匀的Langmuir-Blodgett（LB）膜。这种LB膜被成功地应用于光刻，获得了分辨率为0.5μm的LB膜图形。以该图形为抗蚀层，可将图形进一步转移至金属薄膜上，得到分辨率较高的金属图形，在图形转移的过程中，这种LB膜显示出较高的抗蚀性，有望作为纳米抗蚀薄膜材料在亚微米刻蚀领域得到应用。 |
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| 作者： |
曾国良，李铁生，许文俭，张素华，王筠，赵娜，吴养洁
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| 上传时间： |
2008-09-09 17:23:30 |
| 下载次数： |
37 |
| 消耗积分： |
2
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