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含芴基团的低介电常数聚酰亚胺的合成与表征 |
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| 资料类型： |
Word文件
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| 关键词： |
芴基团 低介电常数 聚酰亚胺 |
| 资料大小： |
552K |
| 所属学科： |
分子表征 |
| 来源： |
2008年第六届全国高聚物分子与结构表征学术讨论会（9.27-9.30，重庆） |
| 简介： |
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低介电常数的聚酰亚胺作为电子器件的包覆材料，可以减小电容耦合率和减少信号延迟等，广泛应用于微电子，航空航天与半导体工业。本文采用不同摩尔比混合两种二胺9，9-双（4-（4-氨基苯氧基）苯基）芴（BAOFL）与双（3，5-二甲基-4-（4-氨基苯氧基）苯基）甲烷（BDAPM）与双酚A型二酐反应制备出一系列聚酰亚胺，进行红外反射，核磁，介电，DSC,Td以及溶解性表征。 |
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| 作者： |
袁媛 林保平 孙岳明
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| 上传时间： |
2009-03-31 17:37:56 |
| 下载次数： |
1 |
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2
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