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高分子半导体复合薄膜垂直相分离分析新技术 |
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资料类型: |
PDF文件
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关键词: |
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资料大小: |
318KB |
所属学科: |
通用高分子材料 |
来源: |
来源网络 |
简介: |
高分子复合薄膜材料在高分子场效应晶体管、太阳能电池和热电器件领域有着广泛的应用前景。然而,由于不同组分间的化学不相容性,或者由于聚合物和衬底的相互作用,薄膜中沿着厚度方向的垂直相分离是非常普遍的现象。垂直相分离往往形成层状结构,对电子器件的性能产生非常大的影响,是该领域研究的重点。尽管如此,目前聚合物薄膜垂直相分离的分析表征技术要么耗时太长,要么很昂贵。在这篇会议论文中,我们介绍一种测试薄膜中不同深度位置处吸收光谱的新方法,用于分析薄膜中不同深度位置处的组分分布。在图1中,我们用聚(3一己基噻吩):聚苯乙烯(P3HT: PS)(5 wt% P3HT)复合薄膜为例来阐述这种方法。薄膜在氧等离子体的作用下沿薄膜厚度方向逐步被刻蚀掉,我们用吸收光谱仪来检测薄膜在刻蚀过程中的变化。我们的研究表明,P3HT主要富集在薄膜的上表面附近,而PS更多的靠近衬底。用这种材料制备的场效应晶体管,PS可屏蔽住衬底表面的大部分陷阱,从而有利于提高器件性能。我们认为这种分析方法可以用于分析其他高分子薄膜的垂直相分离。 |
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上传人: |
liuyh
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上传时间: |
2014-11-18 14:00:02 |
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