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CVD工艺中气体流型的研究 |
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| 资料类型： |
PDF文件
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| 关键词： |
化学气相沉积 体材料 稳定性 均匀性 流型 |
| 资料大小： |
97K |
| 所属学科： |
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| 来源： |
来源网络 |
| 简介： |
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化学气相沉积（CVD）法可制备高纯度、近似元件形状、大面积的块体材料，与制备薄膜的CVD过程相比，该过程存在长时间沉积稳定性、厚度均匀性及光学质量均匀性等问题。本文采用简化装置对CVD工艺过程进行物理模拟，探讨不同工艺参数下沉积室内部气体流型的变化，分析流型对沉积过程的影响。 |
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| 上传人： |
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| 上传时间： |
2007-07-09 16:27:30 |
| 下载次数： |
7024 |
| 消耗积分： |
2
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