结合光刻和反应性相分离技术发展一种简单有效制备微纳米复合图形的方法，2007年全国高分子学术论文报告会（10.9-10.13，成都）-中国聚合物网,论文下载

结合光刻和反应性相分离技术发展一种简单有效制备微纳米复合图形的方法

资料类型：

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关键词：

光刻反应性相分离微纳米图形

资料大小：

476K

所属学科：

分子表征

来源：

2007年全国高分子学术论文报告会（10.9-10.13，成都）

简介：

由于在集成线路板、信息贮存装置、生物芯片和微机电系统中的广泛应用，微纳米图形越来越受到研究者的重视。为了寻找一套简单、有效的制备微纳米级图形的途径，各国研究者开发出多种方法如：激光光致化学沉积（LCVD）、微接触印刷（μCP）、光刻和自组装。在所有这些方法中，光刻技术是唯一应用电子工业生产制备微米级图形的方法；然而由于紫外光的波长和光的衍射等缘故，光刻技术很难制备纳米级（小于100nm）的图形。利用相分离嵌段聚合物的自组装，可以制备出尺寸在10-100nm左右的纳米级图形。但是大多数嵌段聚合物的制备是通过费时、费力活性聚合进行的，很难工业化。和嵌段聚合物自组装相比，研究人员发现在反应性相分离过程中，商用的均聚物和无规共聚物在聚合物网络中也能形成纳米级的相分离。

作者：

纪强姜学松印杰

上传时间：

2007-12-03 16:49:50

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1981penghaixin 2008-11-05 20:24:51

非常好非常好非常好非常好非常好非常好非常好非常好非常好

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